物理特性：銦靶材呈銀色光澤的灰色，熔點為 156.61℃，沸點 2060℃，密度 7.3 g/cm3。質地非常軟，能用指甲刻痕，可塑性強，有良好的延展性，可壓成片。
化學特性：銦具有較好的化學穩(wěn)定性，但在一些特定的環(huán)境下，如高溫、強酸堿等條件下，可能會發(fā)生化學反應。銦化合物在真空下蒸發(fā)，能夠在電子產品和光伏電池生產中形成薄膜。
. 光通信器件
應用：在光纖連接器、光調制器中作為鍍膜材料，提升光學元件的信號傳輸效率和穩(wěn)定性。
場景：數據中心高速光模塊、5G 前傳網絡的光器件制造。
功率與溫度管理
濺射功率：
銦的濺射閾值較低（約 10 eV），起始功率不宜過高（建議從 50 W 逐步遞增），避免瞬間過熱導致靶材熔融或飛濺（銦熔點僅 156.6℃，過熱易造成靶材局部熔化，形成 “熔坑” 影響均勻性）。
直流濺射功率密度通常為 1~5 W/cm2，射頻濺射可適當提高至 5~10 W/cm2。
靶材冷卻：
采用水冷靶架（水溫控制在 15~25℃），確保濺射過程中靶材溫度低于 80℃（高溫會導致銦原子擴散加劇，影響薄膜結晶質量）。
定期檢查冷卻水路是否通暢，避免因散熱不良導致靶材變形或脫靶。
防護措施
個人防護：操作時佩戴防靜電手套、護目鏡，避免直接接觸銦靶（銦金屬，但粉塵吸入可能刺激呼吸道，需在通風良好環(huán)境下操作）。
防火防爆：銦粉或碎屑屬于可燃固體（引燃溫度約 200℃），需遠離明火，廢棄靶材及碎屑應收集于專用容器中，按危險廢棄物處理。
電磁屏蔽：射頻濺射時需確保設備接地良好，防止電磁輻射對操作人員或周邊儀器的干擾。
