熱壓法：把銦粉末在高溫和高壓下壓制成型，能夠提高靶材的致密度和機械強度，同時有助于減少氣孔和其他缺陷。
冷等靜壓法：利用液壓介質在室溫下對銦粉末施加均勻壓力使其成型，可制造出高密度和均勻性的靶材，但需要后續(xù)的燒結處理來提高其機械性能。
純化技術
區(qū)熔法：一種通過熔化和重新結晶來純化材料的方法，可有效去除銦中的雜質，提高其純度。
電解精煉：利用電化學反應將銦從雜質中分離出來。將銦材料作為陽極，置于電解液中，通過施加電流使銦離子在陰極上沉積，從而得到高純度的銦。
化學純化：利用化學反應去除銦中的雜質，例如通過溶劑萃取和化學沉淀等方法，可有效分離和去除雜質，提高銦的純度。
科研與前沿技術
1. 量子計算與超導器件
探索應用：銦薄膜作為超導材料（如 In-Nb 合金），用于量子比特器件的制備，利用其超導電性實現低損耗量子信號傳輸。
2. 柔性電子與可穿戴設備
技術方向：在柔性電路板（FPC）、電子皮膚中作為可拉伸導電薄膜，利用銦的高延展性滿足器件形變需求。
濺射氣體控制
氣體純度：使用高純氬氣（99.999% 以上），避免氧氣、水汽混入導致銦靶氧化（氧化銦導電性下降，易形成電弧放電）。
氣壓調節(jié)：
直流濺射（DC）：氣壓通常為 0.1~10 Pa，低氣壓下濺射速率高但薄膜致密度低；高氣壓下薄膜均勻性好但沉積速率慢。
射頻濺射（RF）：適用于絕緣基底，氣壓可略高于直流濺射，需根據薄膜厚度要求動態(tài)調整。
