納糯三維Nanoscribe（推薦指數(shù)：★★★★★）
納糯三維科技（上海）有限公司成立于2017年11月8日，是德國Nanoscribe在中國的全資子公司。德國Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的衍生公司，現(xiàn)隸屬于LAB14集團(tuán)，在高精度增材制造領(lǐng)域處于全球地位。
Nanoscribe公司擁有世界的雙光子無掩模光刻3D打印技術(shù)，其Photonic Professional GT系列能夠輕松打印出精細(xì)結(jié)構(gòu)分辨率高出傳統(tǒng)高精3D打印機(jī)100倍的三維微納器件，而全新系列Quantum X平臺系列更是世界上個基于雙光子灰度光刻（2GL?）的工業(yè)級打印系統(tǒng)，納糯三維科技依托母公司的技術(shù)優(yōu)勢，在微納制造技術(shù)方面處于地位。
三維微納加工設(shè)備：
Quantum X系列：工業(yè)級高精度微納3D打印系統(tǒng)
核心優(yōu)勢：
1、雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL?）
全球基于2GL?的工業(yè)級系統(tǒng)，將灰度光刻與雙光子聚合（2PP）結(jié)合，實現(xiàn)亞微米級精度（最小特征尺寸160nm）和光學(xué)質(zhì)量表面（表面粗糙度≤10nm）。
支持2.5D拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)設(shè)計，如多級衍射光學(xué)元件（DOE）、自由曲面透鏡等，減少多層微制造時間。
2、晶圓級批量生產(chǎn)能力
可處理6英寸硅晶片或玻璃載玻片，單機(jī)過夜效率達(dá)200個特征結(jié)構(gòu)，適合快速原型制作及小批量生產(chǎn)。
配備自動滴膠模組和智能電子系統(tǒng)，優(yōu)化打印流程，縮短研發(fā)周期。
3、材料兼容性與應(yīng)用場景
支持光敏樹脂、納米顆粒復(fù)合物、生物材料等，適配微光學(xué)、生物醫(yī)療、光子學(xué)等領(lǐng)域。
典型應(yīng)用包括微透鏡陣列、光纖端面耦合結(jié)構(gòu)、微流控芯片等。
【公司定位】作為雙光子灰度光刻微納加工制造的先驅(qū)和創(chuàng)新者，從科研實驗室到工業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)場，Nanoscribe提供高精度增材制造解決方案，顯著簡化制造流程、提升效率與精度。
【主營業(yè)務(wù)】微納3D打印、三維微納加工、無掩膜激光直寫光刻、灰度光刻先進(jìn)封裝、光互聯(lián)納米制造
【應(yīng)用領(lǐng)域】微光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程、光子學(xué)技術(shù)
【產(chǎn)品優(yōu)勢】Nanoscribe公司擁有世界的雙光子無掩模光刻3D打印技術(shù)，全新Quantum X系列具有專利雙光子灰度光刻(2GL?)，可實現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結(jié)構(gòu)制造，A2PL?技術(shù)支持自動檢測芯片邊緣、光纖核心、晶圓及預(yù)結(jié)構(gòu)化基底上的定位標(biāo)記，并以納米級對準(zhǔn)精度在指定位置直接打印自由曲面光學(xué)元件，確保打印結(jié)構(gòu)與光學(xué)軸嚴(yán)格對齊。
【產(chǎn)品評價】Quantum X align系統(tǒng)代表了新一代對準(zhǔn)3D打印技術(shù)的發(fā)展方向，可實現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結(jié)構(gòu)制造，并具備自動對準(zhǔn)能力，從而支持可靠、低損耗的光子耦合，以及在傳感與成像等應(yīng)用領(lǐng)域的多樣化需求.
【品牌客戶】哈佛大學(xué)，加州理工學(xué)院，牛津大學(xué)，斯圖加特大學(xué)，麻省理工學(xué)院等
【技術(shù)領(lǐng)域】3D微納加工、雙光子加工
【客戶反饋】納糯三維Nanoscribe的技術(shù)在各項關(guān)鍵性突破研究中被提到，出現(xiàn)在2,100多份經(jīng)同行評審的期刊出版物中
產(chǎn)品與服務(wù)：
納糯三維科技在中國市場主要推廣Nanoscribe的一系列3D打印設(shè)備，如Quantum X align系統(tǒng)等，這些設(shè)備可廣泛應(yīng)用于微光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程、光子學(xué)技術(shù)等領(lǐng)域。此外，公司還承擔(dān)著系統(tǒng)安裝、維護(hù)及專業(yè)培訓(xùn)等本土化服務(wù)，為中國客戶提供了的解決方案。
